ИЗМЕНЕНИЯ СТРУКТУРЫ НАНОРАЗМЕРНЫХ АМОРФНЫХ ПЛЕНОК Ge2Sb2Te5<Bi> ПРИ ЛАЗЕРНОМ ОБЛУЧЕНИИ
Ключевые слова:
ионно-плазменное ВЧ распыление, примесная модификация, лазерное облучение, кристаллизацияАннотация
В работе приведены результаты исследований изменения структуры модифицированных примесью висмута наноразмерных аморфных пленок состава Ge2Sb2Te5 (Ge2Sb2Te5<Bi>) при лазерном облучении. Модифицированные пленки толщиной ~90 нм получались методом ионно-плазменного магнетронного ВЧ со-распыления поликристаллической мишени из Ge2Sb2Te5 и висмута в атмосфере аргона. Состав пленок и аморфность их структуры контролировались методами энерго-дисперсионного анализа (EDX) на SEM Quanta 3D 200i и просвечивающей электронной микроскопии. Концентрация примеси висмута в пленках изменялась от 2,6 до 16,5 ат.%. Изменения в структуре аморфных пленок под действием лазерного облучения регистрировались in situ методом Рамановской спектроскопии. Показано, что в наноразмерных пленках Ge2Sb2Te5 и Ge2Sb2Te5<Bi>, содержащих примесь Bi до ~7 ат.%, при лазерном воздействии наблюдается переход их структуры из аморфного состояния в термодинамически устойчивое кристаллическое состояние с гексагональной структурой через промежуточное метастабильное кристаллическое состояние с кубической структурой. В пленках Ge2Sb2Te5<Bi> с большей концентрацией Bi при лазерном облучении их структура переходит из аморфного состояния в кристаллическое со стабильной гексагональной структурой без промежуточного метастабильного состояния.